Истражувачи од универзитетот „Дејвис“ во Калифорнија дизајнираа нова маска за лице, чија основа е материјал што може да уништи до 99,99 проценти од бактериите, вирусите и другите патогени микроорганизми за еден час по изложувањето на дневна светлина. Истражувачите нагласија дека оваа маска, изработена од специјален памук, може да се испере 10 пати и може да биде постојано изложена на сончева светлина најмалку една недела. Тоа нема да ја влоши нејзината антимикробна активност. Студијата беше објавена во списанието „Еј-си-ес Аплајд материјалс енд интерфејсес“.
Истражувачите имале намера да дизајнираат нов памучен материјал што ќе ослободува реактивни видови кислород (РОС) кога се изложува на дневна светлина, убивајќи микроби прикачени на површината на материјалот.
Истовремено било важно и да се пере, за да може повторно да се користи и да биде безбедна за корисникот. Соодветно на тоа, истражувачите забележале дека луѓето може да ја дезинфицираат маската за време на ручекот надвор на сонце или поминувајќи подолг временски период на светло во канцеларии или во стан, каде што сончевата светлина е помалку интензивна.
Истражувачкиот тим открил дека фотосензибилизаторот уништил 99,9999 проценти од бактериите на материјалот за еден час од изложеноста на дневна светлина и инактивирал 99,9999 проценти од бактериофагот Т7 – вирус за кој се смета дека е поотпорен на РОС отколку некои коронавируси, во рок од половина час, пишува „Бизнис лајн“.
– Материјалот дава ветувачки резултати во производството на повеќекратни антибактериски или антивирусни платнени маски за лице и заштитна облека – заклучиле истражувачите.
