Кинескиот технолошки гигант „Хуавеј“ започна со развој на вистинска производствена линија од пет нанометри без употреба на машини за литографија ЕУВ (екстремно ултравиолетово) зрачење.
ЕУВ е технологија патентирана од холандската компанија АСМЛ и е забранета за извоз во Кина.
Според порталот УНД, кинескиот технолошки гигант користи алтернатива на ССА800, машина за литографија од „Шангај микро електроникс“, во комбинација со техника на повеќекратно обликување.
Покрај тоа, се наведува дека „Хуавеј“ и неговиот главен партнер за производство на чипови, СМИЦ, веќе работат на технологија од три нанометри, објавува порталот „Баг“.
Истражувањето се одвива во две насоки: првата ја користи САА-архитектурата, имплементирана од водечките светски производители ТСМЦ и „Самсунг“, додека втората се фокусира на чипови базирани на јаглеродни наноцевки.
